半導体歩留まりの欠陥クラスタをウェハー座標・工程順・空間相関別に推定する

入力欄を埋めてから利用してください。

ウェハー上の欠陥位置と工程履歴から、局所クラスタ・工程段階・空間相関の寄与を分ける。入力に含まれる情報だけを使い、記載のない事実、数値、合意は補わないでください。
【入力】
匿名ウェハー、欠陥座標、欠陥種別、ロット、工程順、装置、マスク版、観測範囲

【素材】
[匿名化した情報を貼り付け]

次の制約を守ってください。
設計・製造条件を自動変更せず、欠陥分類と座標系の測定定義を工程責任者が確認してください。
数値分析は、入力データ・式・計算過程を再現可能な形で示せる場合にだけ結果を報告してください。実行できる計算環境がない、データが不足する、または仮定が特定できない場合は数値を作らず『未算出』とし、必要な追加データ、分析手順、検証方法を示してください。相関だけから因果を断定しないでください。
不足情報や矛盾は推測せず確認事項として示し、次の形式で出力してください。
空間強度／クラスタ指標／工程別差／装置効果／欠陥見逃し感度